英國 Durham 無掩膜光刻機(jī)
價(jià) 格：詢價(jià)
產(chǎn) 地：更新時間：2021-01-19 15:36
品 牌：型 號：Microwriter ML3
狀 態(tài)：正常點(diǎn)擊量：2478
400-006-7520
聯(lián)系我時，請說明是在上海非利加實(shí)業(yè)有限公司上看到的，謝謝！
聯(lián) 系 人：
上海非利加實(shí)業(yè)有限公司
電 話：
400-006-7520
傳 真：
400-006-7520
配送方式：
上海自提或三方快遞
聯(lián)系我時請說在上海非利加實(shí)業(yè)有限公司上看到的,謝謝！
| Durham Microwriter ML3 無掩膜光刻機(jī) |
| 詳細(xì)介紹 |
| 小型臺式無掩膜光刻系統(tǒng) | 小型臺式無掩膜光刻系統(tǒng)是英***Durham Magneto Optics公司專為實(shí)驗(yàn)室設(shè)計(jì)開發(fā)，為微流控、SAW、半導(dǎo)體、自旋電子學(xué)等研究領(lǐng)域提供方便高效的微加工方案。 | －－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－  | 傳統(tǒng)的光刻工藝中所使用的鉻玻璃掩膜板需要由專業(yè)供應(yīng)商提供，但是在研發(fā)環(huán)境中，掩膜板的設(shè)計(jì)通常需要經(jīng)常改變。無掩膜光刻技術(shù)通過以軟件設(shè)計(jì)電子掩膜板 的方法，克服了這***問題。與通過物理掩膜板進(jìn)行光照的傳統(tǒng)工藝不同，激光直寫是通過電腦控制***系列激光脈沖的開關(guān)，在光刻膠上直接曝光繪出所要的圖案。 Microwriter ML 3 是***款多功能激光直寫光刻系統(tǒng)，具有結(jié)構(gòu)小巧緊湊(70cm X 70cm X 70cm)，無掩膜直寫系統(tǒng)的靈活性，還擁有高直寫速度，高分辨率的特點(diǎn)。采用集成化設(shè)計(jì)，全自動控制，可靠性高，操作簡便。適用于各種實(shí)驗(yàn)室桌面。 | －－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－- | 產(chǎn)品特點(diǎn) | | | Focus Lock自動對焦功能 Focus lock技術(shù)是利用自動對焦功能對樣品表面高度進(jìn)行探測，并通過Z向調(diào)整和補(bǔ)償，以保證曝光分辨率。 | 光學(xué)輪廓儀 Microwriter ML3 配備光學(xué)輪廓探測工具，用于勻膠后沉積層，蝕刻層，MEMS等前道結(jié)構(gòu)的形貌探測與套刻。Z向精度100 nm，方便快捷。 | | 標(biāo)記物自動識別 點(diǎn)擊“Bulls-Eye”按鈕，系統(tǒng)自動在顯微鏡圖像中識別光刻標(biāo)記。標(biāo)記物被識別后，將自動將其移動到顯微鏡中心位置。 | 別直寫前預(yù)檢查 軟件可以實(shí)時顯微觀測基體表面，并顯示預(yù)直寫圖形位置。通過實(shí)時調(diào)整位置、角度，直到設(shè)計(jì)圖形按要求與已有結(jié)構(gòu)重合，保證直寫準(zhǔn)確。 | | 簡單的直寫軟件 MicroWriter 由***個簡單直觀的Windows界面軟件控制。工具欄會引導(dǎo)使用者進(jìn)行簡單的布局設(shè)計(jì)、基片對準(zhǔn)和曝光的基本操作。該軟件在Windows10系統(tǒng)下運(yùn)行。 | Clewin 掩模圖形設(shè)計(jì)軟件 •可以讀取多種圖形設(shè)計(jì)文件（DXF, CIF, GDSII, 等） •可以直接讀取TIFF, BMP 等圖片格式 •書寫范圍只由基片尺寸決定
| | 產(chǎn)品參數(shù) |
| Microwriter ML3 | 基本型 | 增強(qiáng)型 | 旗艦型 | | 樣品尺寸 | 155×155×7mm | 155×155×7mm | 230×230×15mm | | 直寫面積 | 149mm x 149mm | 149mm x 149mm | 195mm x 195mm | | 曝光光源 | 405 nm LED 1.5W | 405 nm LED 1.5W | 385 nm LED 適用于SU-8
（365+405nm雙光源可選） | | 直寫分辨率 | 1μm | 1μm ａnd 5 μm | 0.6μm, 1μm, 2μm, 5μm | | 直寫速度 | 20mm2/min @ 1μm | 20mm2/min @ 1μm
120mm2/min @ 5μm | 25mm2/min @ 0.6μm
50mm2/min @ 1μm
100mm2/min @ 2μm
180mm2/min @ 5μm | | 對準(zhǔn)顯微鏡鏡頭 | x10 | x3 ａnd x10 自動切換 | x3, x5, x10, x20 自動切換 | | 多層套刻精度 | ±1μm | ±1μm | ±0.5μm | | *小柵格精度 | 200nm | 200nm | 100nm | | 樣品臺*小步長 | 100nm | 100nm | 50nm | | 光學(xué)輪廓Z分辨率 | 無(可升***) | 300nm | 100nm | | 樣品表面自動對焦 | 是 | 是 | 是 | | 灰度直寫(255***) | 是 | 是 | 是 | | 自動晶片檢查工具 | 無(可升***) | 有 | 有 | | 溫控樣品腔室 | 無 (可升***) | 無 (可升***) | 有 | | 虛擬模板校準(zhǔn)工具 | 無(可升***) | 無(可升***) | 有 | | 氣動減震光學(xué)平臺 | 無(可升***) | 無(可升***) | 有 | | | 應(yīng)用案例 |
| | 直寫分辨率1μm | | 直寫分辨率0.6μm | | 微電極制備 光刻膠上的圖形 Au電極（SEM） Au電極（SEM）
| 設(shè)計(jì)圖 光刻膠上的圖形 放大圖的顯微結(jié)構(gòu)
   | | 微結(jié)構(gòu)制備 | | 微流通道制備 | | | －－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－- |
滬公網(wǎng)安備31011502016460號
