污染物對(duì)電子顯微鏡SEM/TEM和其它高真空系統(tǒng)產(chǎn)生的影響
潤(rùn)滑劑、真空脂、泵油樣品中的高分子聚合物，或未經(jīng)處理的空氣都會(huì)把碳?xì)湮廴疚镆秸婵障到y(tǒng)中。低蒸汽壓下高分子重污染物會(huì)凝聚在樣品表面和腔室壁上，而使用普通氣體吹掃方法很難把碳?xì)湮廴疚锴宄?/span>
電子和高能光子(EUV, X-ray)能夠分解存在于真空系統(tǒng)中或樣品上的碳?xì)湮廴疚铩Ｌ細(xì)浠衔锏姆纸猱a(chǎn)物沉積在被觀測(cè)的樣品表面或電子光學(xué)部件上。這種碳?xì)湮廴境练e會(huì)降低EUV的鏡面反射率，降低SEM圖像對(duì)比度和分辨率，造成錯(cuò)誤的表面分析結(jié)果，沉積在光闌或其它電子組件的不導(dǎo)電碳?xì)湮廴疚锷踔習(xí)斐呻娮邮恢没蚓劢咕徛啤Ｔ?/span>ALD系統(tǒng)中，樣品表面的碳?xì)湮廴疚镞€會(huì)降低薄膜的界面匹配質(zhì)量。
遠(yuǎn)程等離子清潔的原理
遠(yuǎn)程等離子源需安裝在要被清潔的真空腔室上，控制器向遠(yuǎn)程離子源提供射頻能量。射頻電磁場(chǎng)能激發(fā)等離子體，分解輸入氣體而產(chǎn)生氧或氫的活性基，活性基會(huì)擴(kuò)散到下游的真空腔室，并與其中的污染物發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，反應(yīng)產(chǎn)物能輕易地被抽走。遠(yuǎn)程等離子清洗機(jī)可同時(shí)清潔真空系統(tǒng)和樣品。
技術(shù)特點(diǎn)：
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快速清潔被污染的SEM樣品。2-60秒氫等離子體清潔ALD樣品。不需減速或關(guān)閉渦輪分子泵
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低等離子偏壓設(shè)計(jì)減少離子濺射和顆粒生成。結(jié)合自有多***氣體過濾技術(shù)，SEMI-KLEEN能夠滿足用戶*苛刻的顆粒污染清除要求
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可選藍(lán)寶石管腔體和耐腐蝕性氣體的流量控制器，以便支持CF4, NF3, NH3, HF, H2S等應(yīng)用
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特有的等離子強(qiáng)度傳感器可實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)等離子狀態(tài)，用戶對(duì)等離子狀態(tài)***目了然
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基于壓力傳感回饋控制的自動(dòng)電子流量控制器，無需手動(dòng)調(diào)節(jié)針閥
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直觀的觸摸屏操作，可定義60條清洗程序方案
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擁有智能安全操作模式和專***控制模式；SmartScheduleTM定時(shí)裝置，通過檢測(cè)樣品裝載次數(shù)或時(shí)間間隔來定時(shí)清潔系統(tǒng)
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低電磁干擾設(shè)計(jì)，安靜的待機(jī)模式
除了EM-KLEEN型遠(yuǎn)程等離子清潔儀之外，另有SEMI-KLEEN quartz型和SEMI-KLEEN sapphire型遠(yuǎn)程等離子清潔儀可供選購(gòu)，三款主要應(yīng)用范圍如下：
EM-KLEEN：SEM, FIB, TEM, XPS, SIMS, AES
SEMI-KLEEN quartz：SEM, FIB, TEM, CD-SEM, EBR, EBI, XPS, SIMS, AES
SEMI-KLEEN sapphire：ALD, EUVL, for NF3, CF4, NH3, H2, HF, H2S plasma
請(qǐng)根據(jù)您需要的應(yīng)用選擇合適的型號(hào)和配置。
滬公網(wǎng)安備31011502016460號(hào)
