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RTP快速退火在PZT薄膜均勻性調(diào)控中的應(yīng)用

2024-06-17 09:26:41

鋯鈦酸鉛(PZT)薄膜具有優(yōu)異的壓電和介電性能以及與其他壓電膜相比高的居里溫度,已在多個(gè)領(lǐng)域進(jìn)行應(yīng)用,從微電子機(jī)械系統(tǒng)(MEMS)到超聲波傳感器,再到能量收集器,它都發(fā)揮著關(guān)鍵的作用[1]。在材料制備過(guò)程中,如何提高材料的均勻性和性能穩(wěn)定性***直是不斷追尋的問(wèn)題。

Youcao Ma等[2]人通過(guò)中溫磁控濺射和快速熱處理(RTP)的結(jié)合,成功地將微米厚的PZT薄膜集成在***個(gè)3英寸的硅片上。特別探討了RTP后PZT薄膜在整個(gè)晶片上的均勻性:不同位置的晶體取向、表面形貌和元素組成的差異性。
圖1說(shuō)明了PZT薄膜在不同位置具有相似的(001)晶格取向、表面形貌和元素分布,這表明RTP處理有助于實(shí)現(xiàn)PZT薄膜的均勻性。可以發(fā)現(xiàn),在RTP處理之前,PZT薄膜中只有Py相,而在RTP處理之后,PZT薄膜中主要出現(xiàn)了(001)取向的Pe相。此外,RTP處理后的PZT薄膜表面呈現(xiàn)出緊密排列的柱狀晶粒,且沒(méi)有明顯的裂縫或孔洞。

圖1 PZT薄膜在RTP處理前后的XRD圖譜和SEM圖像

圖2顯示了RTP處理后的晶圓上不同位置PZT薄膜的介電性能和鐵電性能,包括相對(duì)介電常數(shù)、鐵電滯回環(huán)和介電損耗。其中,表面形貌非常光滑,沒(méi)有明顯的缺陷,這表明PZT薄膜具有良好的表面質(zhì)量。相對(duì)介電常數(shù)和介電損耗隨著電場(chǎng)的變化而變化,呈現(xiàn)出典型的鐵電性蝴蝶環(huán),證明了PZT薄膜具有良好的鐵電性。極化-電場(chǎng)曲線也呈現(xiàn)出典型的鐵電性特征,表明PZT薄膜具有良好的鐵電性。因此,RTP處理有助于改善PZT薄膜的微結(jié)構(gòu)和性能,使其在不同位置具有相似的(001)晶格取向、表面形貌和元素分布,有利于提高薄膜的均勻性和性能。

圖2 PZT薄膜的表面形貌、相對(duì)介電常數(shù)、介電損耗和極化-電場(chǎng)曲線

圖3展示了PZT薄膜的退火過(guò)程示意圖,弛豫過(guò)程中釋放的熱量沒(méi)有分散,而是有助于進(jìn)***步促進(jìn)鈣鈦礦相的成核和結(jié)晶。RTP過(guò)程是***種有效的方法,可以改善薄膜質(zhì)量。此外,還有***些理論支持。Dang等[3]人研究了退火過(guò)程,使用朗道模型和朗之萬(wàn)動(dòng)力學(xué)模擬,RTP過(guò)程可以看作是長(zhǎng)程彈性相互作用,這些不同的晶體學(xué)相表現(xiàn)出不同的朗道型自由能。高加熱率使得RTP系統(tǒng)中的能量高于濺射,可以為繞過(guò)斜方晶相的形成提供更多的能量,如圖1a所示。
如圖3所示,與慢加熱率的CFA相比,RTP可能跳過(guò)***個(gè)相變,生成A/C或B/C兩個(gè)相變。在本工作中,沉積的PZT薄膜的初始狀態(tài)不是非晶態(tài),而是不同濺射溫度下的斜方晶相,表明處于圖3中的狀態(tài)B。***般來(lái)說(shuō),濺射溫度較低(<300℃,綠色矩形)時(shí),PZT薄膜呈現(xiàn)非晶態(tài),而不是在較高溫度(>350°C,中等溫度)下形成的斜方晶相。因此,RTP可能只需要克服能量勢(shì)壘F,促進(jìn)從斜方晶相到鈣鈦礦相的相變,如圖4中的藍(lán)色矩形所示。

圖3 RTP和CFA的退火過(guò)程示意圖
高均勻性的PZT薄膜具有的優(yōu)異鐵電性能源于RTP快速退火爐的良好表現(xiàn),RTP系列產(chǎn)品是武漢有限公司的核心產(chǎn)品,在薄膜材料制備及熱處理方面展現(xiàn)出諸多優(yōu)勢(shì),形成鮮明的行業(yè)競(jìng)爭(zhēng)力,為高質(zhì)量薄膜材料提供了快速升降溫、***控溫的高均勻性的高溫場(chǎng),具體表現(xiàn)在:

【1】快速升降溫的高溫場(chǎng),提供了適宜的溫度條件,有利于消除薄膜缺陷,促進(jìn)鐵電相的成核,避免晶粒過(guò)大;

【2】***控溫的高溫場(chǎng)能夠促進(jìn)鐵電材料的生長(zhǎng)和相轉(zhuǎn)變,獲得更多鐵電相的鐵電材料,提高鐵電性能;

【3】高均勻性的高溫場(chǎng)有利于保證薄膜各處性能的均勻性,獲得均勻的鐵電性能,滿足工業(yè)化生產(chǎn)的需求。

此外,嘉儀通快速退火爐(RTP,Rapid Thermal Processing)產(chǎn)品,采用紅外輻射加熱及冷壁技術(shù),可實(shí)現(xiàn)對(duì)薄膜材料的快速升溫和降溫,同時(shí)搭配超高精度的溫度控制系統(tǒng),可達(dá)到極佳的溫場(chǎng)均勻性和穩(wěn)定性。
嘉儀通()快速退火爐系列可處理1-12吋樣品,對(duì)材料的快速熱處理、快速熱退火、快速熱氧化、快速熱氮化及金屬合金化等研究和生產(chǎn)起到重要作用。

參考文獻(xiàn):

[1]Presas A, Luo Y, Wang Z, et al. A review of PZT patches applications in submerged systems[J]. Sensors, 2018, 18(7): 2251.

[2]Ma Y, Song J, Zhao Y, et al. Excellent Uniformity and Properties of Micro-Meter Thick Lead Zirconate Titanate Coatings with Rapid Thermal Annealing[J]. Materials, 2023, 16(8): 3185.

[3]Dang E K F, Gooding R J. Theory of the effects of rapid thermal annealing on thin-film crystallization[J]. Physical review letters, 1995, 74(19): 3848.


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